pH值对还原氧化石墨结构及电容性能的影响
摘要：以天然鳞片石墨为原料，利用改进的Hummers法制备氧化石墨（GO），再将GO经超声分散，在不同pH值条件下采用抗坏血酸进行还原，制备得到还原氧化石墨（rGO）。采用SEM、XRD、恒流充放电测试分析pH值对样品的微观结构和电容性能的影响。结果表明：所得样品为片层结构，层间距为0.348~0.366nm。随着GO溶液pH值的增加，材料的首次放电容量和循环性能都呈现先增大后减小的趋势。在pH值为9的情况下，rGO的比电容量为141.6F/g，经过500次循环，样品容量保持率仍能达到88%。
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