《PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING》 期刊名缩写:PLASMA CHEM PLASMA P 22年影响因子:3.337 issn:0272-4324 eIssn:1572-8986 类别: 化学工程技术 学科与分区: 物理、流体和等离子体(PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS) - SCIE(Q2)物理,应用(PHYSICS, APPLIED) - SCIE(Q2)工程、化学(ENGINEERING, CHEMICAL) - SCIE(Q2) 出版国家或地区:UNITED STATES 出版周期:Quarterly 出版年份:1981 年文章数:96 是否OA开放访问:No Gold OA文章占比:7.53% 官方网站:www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/11090 投稿地址:mc.manuscriptcentral.com/pcpp 编辑部地址:SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013 录用难度:较易