《IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS》 期刊名缩写:IEEE T IND APPL 22年影响因子:4.079 issn:0093-9994 eIssn:1939-9367 类别: 工程技术物理 学科与分区: 工程,多学科(ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY) - SCIE(Q1)工程、电气和电子(ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC) - SCIE(Q2) 出版国家或地区:UNITED STATES 出版周期:Bimonthly 出版年份:0 年文章数:617 是否OA开放访问:No Gold OA文章占比:2.13% 官方网站:ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=28 投稿地址:mc.manuscriptcentral.com/ieee-ias 编辑部地址:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141 录用难度:容易